或改變晶片製造的新技術「電子浴」，解決薄膜電子學挑戰

高功率脈衝磁控濺射（HiPIMS）最近取得重要進展，新技術暫稱為「電子浴」，有潛力改變晶片生產，並提高微電子元件製造效率和精確度。

團隊使用HiPIMS，成功在絕緣基材上以相對低溫生產高品質壓電薄膜，業界屬首次。薄膜於無線設備扮演重要角色，能確保正確接收訊號，並用於感測器、執行器及能量收集系統等。

創新處在精確控制薄膜形成時離子加速，避免不必要氬氣雜質進入薄膜，對壓電薄膜性能非常重要。精確時機控制，團隊能在薄膜生長時只加速所需離子，提高薄膜品質。

另一個突破是能在絕緣基材上生產薄膜，對半導體業很重要，因許多生產工具無法對絕緣基材施加電壓。團隊稱新方法為同步浮動電位HiPIMS（SFP-HiPIMS），優勢在低溫生產高品質壓電薄膜，為晶片和電子元件生產開闢新路徑。

團隊之後會開發鐵電薄膜，是現在與未來電子科技的關鍵領域。還會與其他研究機構合作，用於光子學和量子科技等，並用機器學習和高通量實驗最佳化流程。

• The “Electron Shower” That’s Revolutionizing Microchip Manufacturing
• Eco-Friendly Breakthrough in Microchip Manufacturing
• Low temperature deposition of functional thin films on insulating substrates enabled by selective ion acceleration using synchronized floating potential HiPIMS

（首圖來源：shutterstock）

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