三星電子傳出已成功突破 10 奈米級第六代(1c)DRAM 製程的良率門檻,達到超過 50%,計劃導入第六代 HBM(HBM4),並在下半年量產。
1c DRAM 製程節點約為11~12奈米,是10奈米級的第六代產品。相較於現行主流的第4代(1a,約14nm)與第5代(1b,約12~13nm)DRAM,1c具備更高密度與更低功耗,晶粒厚度也更薄,有利於在HBM4中堆疊更多層次的記憶體,大幅提升容量與頻寬密度。
目前HBM市場仍以SK海力士與美光主導。SK海力士率先出貨基於1b DRAM製成的HBM4樣品,並掌握HBM3E(第五代 HBM)8層與12層市場,美光則緊追在後。三星則落後許多,雖曾向AMD供應HBM3E,但未通過NVIDIA測試,使其在AI記憶體市場的市占受到挑戰。
為扭轉局勢,三星從去年起全力投入1c DRAM研發,並由DRAM開發室長黃相準(音譯)主導重設計作業。他指出,1c DRAM性能與良率遲遲未達標的根本原因在於初期設計架構,強調「不從設計階段徹底修正,將難以取得進展」。據悉,該案初期因設計團隊與製造部門缺乏協作導致進度受阻,此次由高層介入調整設計流程,亦反映三星對重回技術領先地位的決心。
三星亦擬定積極的市場反攻策略。下半年將計劃供應HBM4樣品,並強調「客製化 HBM」為新戰略核心。HBM4允許將邏輯晶片(logic die)與DRAM堆疊整合,透過晶圓代工製程最佳化整體架構,以依照不同應用需求提供高效率解決方案。為強化整體效能與整合彈性,三星也導入自研4奈米製程,用於量產搭載於HBM4堆疊底部的邏輯晶片(logic die)。
值得一提的是,根據韓國媒體《The Bell》報導,SK海力士對1c DRAM 的投資相對保守,將重點轉向以1b DRAM支援HBM3E與HBM4的量產,預計要到第七代HBM( HBM4E)才會導入1c製程。
這也突顯出三星希望透過更早導入先進製程,在技術節點上搶得先機。若三星能持續提升1c DRAM的良率,不僅有助於縮小與競爭對手的差距,也將強化其在AI與高效能運算市場中的供應能力與客戶信任。
(首圖來源:科技新報)
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